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科研3D打印機
product
產(chǎn)品分類品牌 | 摩方精密 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 |
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光學(xué)精度 | 10μm | 打印材料 | 光敏樹脂 |
打印層厚 | 10-40μm | 最大打印尺寸 | 19.2mm(L)×10。8mm(W)×45mm(H) |
光源 | UV?LED(405nm) |
一、科研3D打印機介紹
nanoArch P140是科研級3D打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
微納制造 精密必現(xiàn)
nanoArch P140是可以實現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL:Projection Micro Stereolithography)
二、科研3D打印機nanoArch P140 系統(tǒng)簡介
nanoArch P140是可以實現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認(rèn)為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。